Mini-BENCH超高溫小型臺(tái)式實(shí)驗(yàn)爐THERMOCERA

Mini-BENCH超高溫小型臺(tái)式實(shí)驗(yàn)爐THERMOCERA

Mini-BENCH超高溫小型臺(tái)式實(shí)驗(yàn)爐，Mini-BENCH-棱鏡半自動(dòng)超高溫實(shí)驗(yàn)爐，TE系列超高溫臺(tái)式多氣氛實(shí)驗(yàn)室爐，MiniLab-CF超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐

產(chǎn)品介紹

Mini-BENCH超高溫小型臺(tái)式實(shí)驗(yàn)爐

超緊湊桌面尺寸超高溫實(shí)驗(yàn)爐[Mini-BENCH]系列，適合各種研發(fā)用途

碳爐（真空、惰性氣體）、金屬爐（真空、惰性氣體、還原氣氛），從最小配置（加熱器/室+控制箱），我們根據(jù)您的預(yù)算和目的提出系統(tǒng)。

 尺寸緊湊，操作方便快速升溫高達(dá)2000℃！

可廣泛應(yīng)用于SiC/GaN器件基礎(chǔ)研究、新材料/新材料開(kāi)發(fā)、其他高級(jí)基礎(chǔ)研究、產(chǎn)品開(kāi)發(fā)部門等。

特征

緊湊的桌面尺寸，即使在實(shí)驗(yàn)室有限的空間內(nèi)也可以安裝。

我們將根據(jù)您所需的燒成條件進(jìn)行定制設(shè)計(jì)。

我們將提出適合您預(yù)算的設(shè)備配置。

Mini-BENCH-棱鏡半自動(dòng)超高溫實(shí)驗(yàn)爐

半自動(dòng)超高溫實(shí)驗(yàn)爐Max2000℃

通過(guò)在 Mini-BENCH [Mini-BENCH-prism]上添加 PLC 自動(dòng)序列，提高了可操作性

PLC半自動(dòng)控制 臺(tái)式Mini-BENCH半自動(dòng)控制型

電爐“真空"、“排氣"運(yùn)行自動(dòng)順序控制（氣體流量→針閥手動(dòng)調(diào)節(jié)）

冷卻水異常、爐膛溫度異常、超壓異常 監(jiān)測(cè)。堅(jiān)固的 SUS 水冷室，即使在溫度下連續(xù)使用也可安全使用。

特征

節(jié)省空間：603（寬）x 603（深）x 1,170（高）mm

PLC半自動(dòng)操作：（真空/吹掃x 3周期~排氣）

聯(lián)鎖（冷卻水/室表面溫度/加熱器過(guò)熱/真空/室打開(kāi)/關(guān)閉）

圓柱形加熱器（用于坩堝）和平面加熱器（用于晶圓燒制）

氣氛：真空、惰性氣體、還原氣氛

TE系列超高溫臺(tái)式多氣氛實(shí)驗(yàn)室爐

超高溫臺(tái)式多氣氛實(shí)驗(yàn)爐【THERMIC EDGE】Max2000℃

這是一款臺(tái)式超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐，支持氮?dú)?、氧氣、氦氣、氬氣、氫氣等多種氣氛。

TE系列超高溫臺(tái)式多氣氛實(shí)驗(yàn)爐“Thermic Edge"

PLC半自動(dòng)操作用于電爐從抽真空/吹掃到排氣的操作。無(wú)需手動(dòng)開(kāi)關(guān)閥門等復(fù)雜操作，可通過(guò)觸摸屏進(jìn)行集中管理。

桌面尺寸緊湊，可以有效利用實(shí)驗(yàn)室有限的空間。

特征

3種爐加熱器/保溫材料擴(kuò)大了碳爐的應(yīng)用范圍。

C/C復(fù)合加熱器

SiC3（碳化硅）涂層加熱器

TiC3（碳化鈦）涂層加熱器

緊湊的機(jī)身內(nèi)蘊(yùn)含多種功能

節(jié)省空間：889（寬）x 503（深）x 629（高）mm

圓柱形加熱器（用于坩堝）和平面加熱器（用于晶圓燒制）

聯(lián)鎖（冷卻水/室表面溫度/加熱器過(guò)熱/真空/室打開(kāi)/關(guān)閉）

PLC半自動(dòng)操作：（真空/吹掃x 3周期~排氣）

觀察視口（可選）

MiniLab-CF超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐

超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐Max2900℃

支持各種燒成條件和使用環(huán)境的超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐。

采用C/C復(fù)合材料、SiC3涂層、TiC3涂層加熱器

用于研發(fā)的超高溫多氣氛實(shí)驗(yàn)爐，可進(jìn)行溫度2900°C的燒成實(shí)驗(yàn)。