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重慶津澤機(jī)電科技有限公司
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MiniLab系列柔性薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備THERMOCERA

參   考   價(jià): 8900

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地重慶市

更新時(shí)間:2023-08-16 17:36:38瀏覽次數(shù):819次

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產(chǎn)地 進(jìn)口 加工定制
MiniLab系列柔性薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備THERMOCERA
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MiniLab系列柔性薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備THERMOCERA

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產(chǎn)品介紹

MiniLab系列柔性薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備

由于是模塊內(nèi)置型,因此可以根據(jù)所需的薄膜類型和工藝組裝專用機(jī)器。

一種靈活的小型實(shí)驗(yàn)裝置,可用于多種目的。

MiniLab研發(fā)實(shí)驗(yàn)設(shè)備系列結(jié)合了各種選項(xiàng)中最少的必要和的模塊來(lái)滿足您的需求。我可以??梢砸约床寮从玫姆绞皆O(shè)計(jì)和組裝大量組件選項(xiàng)和模塊化控制單元,從而實(shí)現(xiàn)廣泛的應(yīng)用和在各種研發(fā)開發(fā)現(xiàn)場(chǎng)的使用。我們將根據(jù)您的目的和預(yù)算提出的系統(tǒng)配置。

特征

機(jī)身緊湊,節(jié)省空間的設(shè)計(jì)

極限真空:5x10-5 帕斯卡

靈活的系統(tǒng),允許您按照所需的配置組合腔室、組件和控制器

操作簡(jiǎn)單:專用控制軟件IntelliDep",直觀的操作讓任何人都可以操作。

配方控制(7英寸觸摸屏,或Windows PC操作):最多可注冊(cè)50個(gè)膠片配方

ML-GB手套箱薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備

MiniLab-GB手套箱薄膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備

氣相沉積、濺射和退火等操作可以在手套箱內(nèi)無(wú)縫執(zhí)行。

MiniLab-026MiniLab-090的室與手套箱工作臺(tái)相連,控制架存放在工作臺(tái)下方。一種薄膜實(shí)驗(yàn)裝置,設(shè)計(jì)用于與手套箱連接。是將濺射、真空蒸鍍等成膜設(shè)備與手套箱安裝區(qū)域融為一體的節(jié)省空間的裝置。

OLED(有機(jī)EL)、OPV(有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池)、OTFT(有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池)、石墨烯、TMD(過(guò)渡金屬二硫化物)等2D材料的沉積過(guò)程中,與氧氣和濕氣隔離. 樣品應(yīng)在惰性氣體氣氛中處理。

MiniLab-026/00-GB通過(guò)將PVD處理室容納在GB內(nèi),在緊湊且節(jié)省空間的環(huán)境中實(shí)現(xiàn)了有機(jī)薄膜實(shí)驗(yàn)的“無(wú)氧和水"環(huán)境。

特征

節(jié)省空間。沉積設(shè)備適合手套箱主體的尺寸。

成膜后的樣品不暴露在大氣中,可以在工作臺(tái)受控氣氛下進(jìn)行處理。

PVD成膜、旋涂、熱板烘烤等一系列操作可以在GB內(nèi)無(wú)縫進(jìn)行,無(wú)需暴露在外部空氣中。

nanoCVD-WGP晶圓級(jí)石墨烯合成裝置

晶圓級(jí)石墨烯合成器

晶圓尺寸兼容的熱 CVD/等離子體 CVD 設(shè)備

基材尺寸:Φ3英寸或Φ4英寸

nanoCVD-WGCVD法"(化學(xué)氣相沉積)

CVD法是一種已經(jīng)確立的多用途且穩(wěn)定的技術(shù),也是考慮未來(lái)大規(guī)模合成石墨烯和CNT時(shí)最現(xiàn)實(shí)的方法。我來(lái)了。開發(fā)商Moorfield Nanotechnology與英國(guó)國(guó)家研究院合作多次驗(yàn)證了這款沉積測(cè)試設(shè)備。在研究機(jī)構(gòu)的合作下,利用拉曼光譜、SEMAFM等,已經(jīng)驗(yàn)證可以從分析數(shù)據(jù)創(chuàng)建高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。

nanoCVD-WPG“等離子體增強(qiáng) CVD"

反應(yīng)速度快,雜質(zhì)被抑制。它是一種高速、高通量等離子體輔助清潔高質(zhì)量石墨烯的CVD合成方法。

特征

緊湊型設(shè)計(jì):590(寬)x 590(深)x 1050(高)mm

Φ3英寸或Φ4英寸晶圓級(jí)石墨烯合成

13.56MHz射頻150W等離子電源(標(biāo)配)

基板加熱階段Max1100

冷壁法熱CVD

全自動(dòng)PLC自動(dòng)順序控制

用戶友好的 7" 觸摸屏人機(jī)界面

多種沉積配方注冊(cè)/手動(dòng)/自動(dòng)操作

納米爐熱CVD設(shè)備

緊湊尺寸熱壁熱CVD

基材尺寸:Φ2.5英寸或Φ4英寸

納米爐模型。

[熱壁熱CVD設(shè)備]適合基礎(chǔ)研究的小型高性能CVD設(shè)備

石墨烯、碳納米管

氧化鋅納米線

SiO2等絕緣膜

此外,它還可作為熱壁熱 CVD 系統(tǒng)用于廣泛的應(yīng)用。

設(shè)備1.png

設(shè)備2.png設(shè)備3.png

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